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NM930在NM910科研級(jí)手動(dòng)正置顯微鏡的基礎(chǔ)上增加多種電動(dòng)部件,簡(jiǎn)化了重復(fù)性操作,提高工作效率,使顯微鏡檢更輕松。本款NM930科研級(jí)電動(dòng)正置金相顯微鏡在確保*秀的光學(xué)性能和精巧的人體工學(xué)設(shè)計(jì)的基礎(chǔ)上,加入多種便捷化、人性化設(shè)計(jì),使顯微觀察更舒適,放大倍率轉(zhuǎn)換更方便,圖像拍攝更快捷。
顯微成像效果y秀
NM900采用y秀的NIS無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)。視場(chǎng)均勻,明亮,色彩還原度高。適合觀察半導(dǎo)體等工業(yè)樣本。
大視場(chǎng)范圍目鏡
NM900采用視場(chǎng)范圍25mm的大視場(chǎng)目鏡,視野更大,觀察內(nèi)容更q面,樣本觀察更快速。對(duì)于需要全景視圖的樣本,擁有大視場(chǎng)范圍的顯微鏡是更為正確的選擇。
柯勒照明
完m的顯微照明系統(tǒng)--柯勒照明,提供明亮均勻的視場(chǎng)。配合無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng)NIS45和高數(shù)值孔徑和高工作距離的物鏡,給您提供完m的顯微成像。
NIS45系列物鏡
通過(guò)使用精心挑選的高透玻璃和g級(jí)涂層技術(shù),確保了色彩的j確還原。同時(shí)對(duì)于各種使用需要,有多種物鏡可供選擇,包括高分辨率、偏振光和超長(zhǎng)工作距離物鏡。
人體工學(xué)設(shè)計(jì),舒適的操作體驗(yàn) NM900提供出s的光學(xué)性能與舒適的操作體驗(yàn),是廣大科研工作者值d信l的科研伙伴。采用科研級(jí)顯微鏡主流的光學(xué)系統(tǒng)——無(wú)限遠(yuǎn)光學(xué)系統(tǒng),使多種觀察方法的實(shí)現(xiàn)成為可能。而且完m的柯勒照明為顯微鏡提供明亮而均勻的視場(chǎng)。在此基礎(chǔ)上,VHENT不斷優(yōu)化客戶產(chǎn)品使用體驗(yàn),符合人體工學(xué)設(shè)計(jì),使觀察與操作都可以保持舒適的姿勢(shì)。
人走燈滅
操作者離開(kāi)超過(guò)30分鐘后,顯微鏡會(huì)自動(dòng)關(guān)閉透射光源。節(jié)能開(kāi)關(guān)即可節(jié)約能源,又保護(hù)了光源,增加光源使用壽命。
可變傾角三目觀察頭
可調(diào)節(jié)傾斜角度的觀察頭,可以在更舒適的姿勢(shì)下進(jìn)行操作。z大限度的減少長(zhǎng)時(shí)間工作帶來(lái)的肌肉緊張與不適。
左/右手位操作互換機(jī)構(gòu)及低手位操作系統(tǒng)
為了更好的適應(yīng)不同操作習(xí)慣的使用者,調(diào)焦和載物臺(tái)可方便的調(diào)整為左手或右手位進(jìn)行操作。并且調(diào)焦手輪和載物臺(tái)移動(dòng)平臺(tái)處于低手位,操作更加舒適,減少使用疲勞。
光強(qiáng)管理功能
在轉(zhuǎn)換不同倍率的物鏡時(shí),需要對(duì)光照強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整,以保證不同放大倍數(shù)下視野內(nèi)光照亮度相同。NM930能夠智能記憶不同放大倍數(shù)下的適宜光照強(qiáng)度,跟隨物鏡放大倍數(shù)改變而自動(dòng)調(diào)節(jié),減少視疲勞。本功能適用于下光源。
電動(dòng)部件,減少重復(fù)性操作
光強(qiáng)管理功能
在轉(zhuǎn)換不同倍率的物鏡時(shí),需要對(duì)光照強(qiáng)度進(jìn)行調(diào)整,以保證不同放大倍數(shù)下視野內(nèi)光照亮度相同。能夠智能記憶不同放大倍數(shù)下的適宜光照強(qiáng)度,跟隨物鏡放大倍數(shù)改變而自動(dòng)調(diào)節(jié),減少視疲勞。
內(nèi)置控制面板
將特定按鈕設(shè)定為與特定物鏡產(chǎn)生對(duì)應(yīng)關(guān)系,只需輕輕一按即可輕松改變放大倍率。
物鏡倍率自動(dòng)切換
只需輕輕一按即可完成物鏡的切換。另外,還可以自定義兩個(gè)常用的放大倍率,只需輕輕一按此按鈕即可在這兩個(gè)物鏡之間切換。
顯微圖像拍攝按鈕
只需輕輕一按顯微鏡底座上的拍攝按鈕,即可使Nexcope T系列相機(jī)完成拍攝。
模塊化設(shè)計(jì),可實(shí)現(xiàn)多種觀察方式
NM900顯微鏡采用模塊化設(shè)計(jì),實(shí)現(xiàn)明場(chǎng)、暗場(chǎng)、微分干涉、熒光、偏光等觀測(cè)方法。為建筑、材料分析、半導(dǎo)體生產(chǎn)和檢測(cè)等工業(yè)領(lǐng)域提供顯微成像及數(shù)據(jù)分析支持。